キヤノン、半導体製造装置でASML独走に待った ナノインプリントの実力 - 日本経済新聞
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特筆すべきは、EUVの1/10出力で済むところ。
1MWも消費する装置、2年毎に10倍の出力が必要になるとか笑えん。
https://www.mapion.co.jp/smp/news/column/cobs2472226-1-all/
注目のコメント
ナノインプリントの具体的なプロセスについて詳しい。
成功するかは分からないが、すさまじい技術の結晶と執念だと思う。精度を実現するアラインメントはEUV露光など通常のリソでもある(そしてこれはこれでスゴイ領域なのだが)、ひずみ補正とか化け物の世界…ひずみが生まれる前提で膨張係数の差を利用して熱を加えて補正するって…
レプリカマスクの材料は何を使うのだろう?