米インテル、半導体技術の優位性奪回目指す-性能を測る基準変更
コメント
注目のコメント
インテルと他ファウンドリのテクノロジーノード名称にズレが生じていた(実際のトランジスタパフォーマンスで見るとギャップがあった)のは事実であり、今回の名称見直しは半導体エンジニア以外にも理解しやすくなったという点で妥当な判断だと思います。
intelのプロセスノード表記はTSMCやsamsungよりも1-2世代くらい違うというのは半導体業界では常識(アジア勢はサバ読んでる)。
TSMC 7nm ≒ intel 10nmという具合。
ノード表記と実際の配線、ゲート幅も全く異なっており、ノードは世代を示す、単なる数字になっているのは間違いない。
一方で、業界リーダーだったintelがTSMCやsamsungのノード表記に合わせたというのは時代の流れを象徴している。性能基準というより表現方法という感じか。
一方で、実質的にはIntelとTSMC・Samsungの差は微細化の1世代分(Intel10nmとTSMC7nmが同等)で、今は最先端は2世代の差が開いている。またIntelが10nmから先に進めていないのが技術開発の遅れで、EUVという最先端装置の活用に量産では進めていない。
下記が英語記事だが、今回の発表について詳しい。
https://venturebeat.com/2021/07/26/intel-aims-to-regain-chip-manufacturing-leadership-by-2025/
Intelについては今年CEOが交代。昨年検討していたファンドリーシフトの方向性から自社製造モデル(IDM)を維持する方向を発表している。ただ直近それとは異なる方向性も報じられていて(①)、またGFの買収検討も報道されている(②)。
これらも、自社製造の競争力があるのか、それをどう活用するのかという論点に関わるため気にしているが、特に発言は出ていないように見える。
①https://newspicks.com/news/5985273
②https://newspicks.com/news/6020188