キヤノン、半導体製造装置でASML独走に待った ナノインプリントの実力 - 日本経済新聞

コメント

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• N Sayaka

  特筆すべきは、EUVの1/10出力で済むところ。
  1MWも消費する装置、2年毎に10倍の出力が必要になるとか笑えん。
  
  https://www.mapion.co.jp/smp/news/column/cobs2472226-1-all/

注目のコメント

• Kato Jun

  ユーザベース SPEEDAアナリスト

  ・2024年01月16日

  ナノインプリントの具体的なプロセスについて詳しい。
  成功するかは分からないが、すさまじい技術の結晶と執念だと思う。精度を実現するアラインメントはEUV露光など通常のリソでもある（そしてこれはこれでスゴイ領域なのだが）、ひずみ補正とか化け物の世界…ひずみが生まれる前提で膨張係数の差を利用して熱を加えて補正するって…
  
  レプリカマスクの材料は何を使うのだろう？
• Matsunaga Takashi

  バッテリー スペシャリスト

  ・2024年01月16日

  EUVを選択しなかったキャノンのナノインプリント
• Keisuke Yamazaki

  Singapore RHQ Founder / Business Development Manager

  ・2024年01月18日

  期待しています
  パーティクル制御と検査をどうしているのか興味があります